ディンプル枕プレートで作られた静的融解結晶剤熱交換器
静的融解結晶剤は、内部循環加熱または冷却プロセスに使用される、加熱培地または冷却培地を備えた特別な熱交換プレート（プラトコイルプレート）を使用します。熱交換プレートは、結晶化機のキャビネットに垂直に配置され、加熱または冷却培地は溶融物質の凍結点の下の結晶化母液をゆっくりと冷却します。最後に、結晶化層は熱交換プレートの表面に形成され、「発汗」プロセスを使用して不純物を除去し、結晶を精製します。
静的融解結晶材料は、異なる融点（結晶化点）を使用してターゲット製品を他のコンポーネントから精製して分離し、過飽和状態を達成するために冷却することで結晶化と分離を実現する方法です。プロセス全体は、結晶化、発汗、融解などの3つの主要なステップに分割されます。
溶融混合物は、熱伝達培地から結晶化点の下までゆっくりと冷却され、結晶はプラトコイルプレートの表面で沈殿し、結晶化層を形成します。不純物は主に母液に存在し、晶質剤から排出されます。
結晶化層は、発汗（部分的な融解）、つまり融点へのゆっくりとした加熱によって精製される可能性があります。その後、包まれた接着性の不純物は、融解生成物によってすすぎます。発汗は、全体のプロセスの重要なステップです。
発汗後、熱伝達培地の温度をさらに上げて、すべての結晶化層を溶かし、高純度の液体製品を取得します。
Platecoilプレートは、レーザー溶接技術によって形成され、膨らんだフラットプレート構造を備えた特別な熱交換器であり、高度に乱流の内部流体の流れを備えており、高熱伝達効率と均一な温度分布をもたらします。 LTは、顧客の要件に応じて、さまざまな形状とサイズで設計および製造できます。プラトコイルプレートは、高強度ケーシングに配置されています。このテクノロジーは、独自の反結晶カラップデザインと、底部にデッドスペースのない排出技術を組み合わせています。プラトコイルプレート溶媒溶媒溶剤（静的融解結晶剤）の外側は、製品インレット、排出ポート、ベントアウト、オーバーフローポート、計装、およびその他の機能ノズルで設計されたキャビネットです。
| 電子グレードの化学物質 | 石油化学物質 | ||
| リン酸 | 炭酸エチレン | パラキシレン | ベンゼン |
| アセトニトリル | ビニリデン炭酸塩 | 1,2,4,5-テトラメチルベンゼン | フェノール |
| 炭酸ジメチル | フルオロエチレン炭酸塩 | ジシクロペンタジエン | パラフィン |
| ポリマーモノマー | 細かい化学物質 | ||
| dl-lactide | ビスフェノールa | ピリジン | TDI |
| ジクロロベンゼン | M-xylylenediamine | ベンゾ酸 | MDI |
| cuscinonitrile | メタクリル酸 | クロロ酢酸 | ナフタレン |
| 1,4-ブタンディアミン | 氷河アクリル酸 | 1-ナフトール | P-Cresol |
| 1,4-ジシアノブタン | コハク酸ジメチル | メチルナフタレン | ベンゾ酸 |
| 1,6-ジアミノヘキサン | テレフタロイル塩化物 | シアノピリジン | 4-クロロトルエン |
| 1,5-ペンタネディアミン | ビス（4-フルオロフェニル） - メタノン | メントール | 無水マレック |
| ベンゼンジアミン | ビス（4-ニトロフェニル）エーテル | ジイソシアネート | クロロニトロベンゼン |
| Caprolactam | ジメチルテレフタレート | ジシクロペンタジエン | p-tert-butylphenol |
| 生化学 | |||
| オレイン酸 | 酸性酸 | ブタン-1,2-ジオール | エリスリトール |
| イタコン酸 | ステアリン酸 | クロトン酸 | lsosorbide |
| シンナミン酸 | キシリトール |
| |
1。均一な温度分布。
2。制御可能な結晶化サイクル。
3.発汗中の結晶の崩壊はありません。
4.清掃とメンテナンスのために完全に取り外し可能。
5。カスタムメイドのサイズと形状が利用可能です。
